序号

需求编号

需求名称

研究内容

联合开发目标

发布单位

1

202301-1

半导体显示领域知识体系与大模型开发

（1）开发半导体显示领域知识库

（2）开发半导体显示领域的评测体系

（3）大模型体系的训练与微调

（4）大模型的部署使用、迭代更新及维护

以一套专业系统的形式体现, 拟设立基础及专业定制版两个版本, 面向领域内使用, 并可开展对外服务

国家新型显示技术创新中心本部

2

202301-2

高性能蓝色量子点材料与器件开发

（1）高性能蓝色量子点关键材料开发

（2）蓝色QLED器件关键功能材料开发

（3）蓝色QLED器件开发及衰减机制研究

（4）蓝色QLED打印器件与工艺关键技术开发

• 旋涂蓝色QLED器件：CIE.y<0.06, 亮度1000 nits：CE≥12cd/A, LT95≥600h
• 打印蓝色QLED器件：CIE.y<0.06, 亮度1000 nits：CE≥10cd/A , LT95≥300h

国家新型显示技术创新中心本部

3

202302-1

电润湿电子纸用关键氟树脂材料开发

（1）无定形含氟聚合物合成技术

（2）面向电润湿显示无定形含氟聚合物可控关键制备技术

（3）含氟聚合物的放大生产关键技术

• 介电常数≥ 2.0
• 接触角≥ 120 ± 5°C
• 透光率≥ 99 %
• 玻璃化温度：130~150°C
• 溶液粘度：100~1000 cps

反射式显示创新平台：华南师范大学

4

202303-1

超高迁移率氧化物TFT开发

1. 高迁移率、高稳定性稀土掺杂氧化物半导体材料、器件、驱动与集成关键技术

（2）稀土掺杂氧化物TFT器件结构及界面优化关键技术

（3）低功耗、高密度像素阵列集成及封装技术

• µ≥100 cm²/V∙s, V_th≤ 1.5 V, I_on/I_off≥10⁸, SS≤200 mV/dec；
• PBTS Delta V_th ≤ 1.0V（测试条件V_gs=20 V, V_ds=0.1 V, 温度=60℃）
• NBITS Delta V_th ≤2.0 V（测试条件V_gs=-20 V, V_ds=0.1 V，温度=60 ℃，白光照射亮度≥6000 nits）
• 最高支持到360Hz动态刷新率氧化物驱动背板

TFT技术创新平台：广州新视界光电科技有限公司，华南理工大学

5

202304-1

扫描探针显微及光谱检测方法与装置研发

（1）高精度、高效率扫描探针成像关键技术

（2）针尖近场光场分布及光场漩涡理论探究

（3）显示器件材料的振动光谱分析关键技术

（4）显示器件载流子输运、复合过程及机理研究

（5）显示器件辐射发光、激子衰变过程及机理研究

• 超分辨扫描探针显微及光谱检测设备1套
• 设备空间分辨率优于10nm
• 设备光谱分辨率优于0.1nm

显示装备创新平台：季华实验室。

6

202304-2

新型柔性OLED器件空间型ALD封装技术开发

1. 高均匀性、高致密、高透光、低应力、

高速率无机薄膜沉积技术

（2）高速动态流场控制技术

开发一套空间型ALD设备, 封装薄膜可实现以下性能:

• 水汽透过率≤ 10^-4g/m²/day@100nm
• 成膜速率≥ 20nm/min
• 厚度非均匀性＜ ± 5%@100nm
• 内应力＜ ± 100Mpa@100nm
• 可见光透过率 ＞ 97%@100nm
• 台阶覆盖率 ＞ 90%

显示装备创新平台：季华实验室。

7

202305-1

高PPI FMM Mask开发

（1）高精度FMM Mask基材（InVar合金或铁镍合金）开发技术

（2）高精度FMM Mask图案化方案（电镀或激光刻蚀）

（3）高精度FMM Mask制作工艺

像素密度达到1500PPI的FMM Mask

蒸镀OLED创新平台：维信诺科技股份有限公司

8

202305-2

显示用可拉伸导电材料开发

（1）超高拉伸率导电材料开发

（2）适用拉伸显示低电阻关键技术开发

• 拉伸率：20%~50%，电阻变化率≤ 15%
• 拉伸回复率≥ 99%

蒸镀OLED创新平台：云谷（固安）科技有限公司

9

202306-1

超高密度GaN

 Micro-LED微显示

（1）高质量GaN Micro-LED外延材料生长关键技术

（2）高性能Micro-LED器件的设计与制备技术

（3）Micro-LED与CMOS背板键合集成技术

（4）基于硅基CMOS的Micro-LED显示样机集成技术

• 单个GaN Micro-LED像素的台面尺寸为5μm×5μm（max：6μm×6μm），台面中心间距不大于8μm
• 0.7吋显示样机像素分辨率为1920×1080（像素密度超过3000PPI）、可视角度：80°/80°/80°/80°、亮度不小于300,000 cd/m²
• Micro-LED样机可工作温度：-20℃～+60℃

Micro-LED显示创新平台：福州大学、闽都创新实验室

10

202301-3

基于喷墨打印工艺的Mini-LED显示封装技术开发

（1）Mini-LED显示用打印封装黑色掩膜材料开发

（2）Mini-LED显示基板、芯片及掩膜材料适配技术开发

（3）适用于Mini-LED显示用喷墨打印关键工艺技术开发

• 掩膜厚度：5-50μm
• 厚度均一性：≤7%@5-20μm，≤10%@20-50μm
• 边缘线性精度：≤ ± 15μm
• Mura要求：无线性Mura
• Mini-LED芯片上表面无墨水材料残留

国家新型显示技术创新中心本部。

11

202307-1

激光显示用高功率蓝光半导体激光器

（1）大失配异质结激光材料设计、生长和调控关键技术

（2）载流子的泄漏抑制、光增益增强与光损耗抑制技术

（3）器件可靠性提升及应用技术

• 蓝光 LD 激光器功率≥ 6W
• 激光器波长 460nm ± 5nm
• 激光器寿命≥ 10000h

激光显示创新平台：中国科学院理化技术研究所，杭州中科极光科技有限公司