东进半导体与三星电子合作，成功开发了超细半导体加工必不可少的材料——极紫外（EUV）光刻胶（PR）。
东进化成华城园区鸟瞰图
东进半导体19日宣布，近期通过了三星电子的EUV PR可靠性测试（Qual）。一位熟悉此事的业内人士表示，“Dongjin Semichem 在其位于京畿道华城的工厂开发了 EUV PR，并在三星电子的华城 EUV 生产线上对其进行了测试，并获得了最终质量。”他说。
在韩国，用于氟化氪 (KrF) 和氟化氩 (ArF) 工艺的 PR 已大量生产，但没有用于可以绘制更精细电路的 EUV 的 PR。那是因为它很难开发。韩国使用的 EUV PR 大部分是从日本进口的。EUV PR是2019年日本三大出口限制之一。此款光刻胶打破了韩国EUV光刻胶完全依赖海外供应商的局面。
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