2021年，晶洲装备迎来新的家园，站在新的高度，踏上了新的征程。新厂竣工伊始，晶洲接获某大客户大尺寸显示基地示范工厂G8.5刻蚀设备订单，历时130余天，G8.5刻蚀设备较之标准生产周期提前50天超前完成生产，顺利下线。
湿法刻蚀设备主要应用于平板显示制程的阵列(Array)段，其原理是利用化学的方法对经过曝光与显影后的基板表面金属膜层进行均匀刻蚀，进而形成光刻定义的电路图，是图形化工艺的关键制程，一向由进口设备商垄断，国内厂商少有涉及。
2020年，晶洲装备G8.5大世代设备技术突破显影、刻蚀、剥膜等一系列主工艺设备形成批量订单，并陆续交付，全面覆盖了ITO、IGZO、Ag、Mo、Al、Cu等各种膜材的刻蚀工艺。
来源： 晶洲装备
关注我们
公众号：china_tp
微信名称：亚威资讯
显示行业顶级新媒体
扫一扫即可关注我们
