作为下一代新型显示材料，量子点属于无机材料，具有很高的稳定性，但因其容易受到氧气和水汽的侵蚀，导致荧光猝灭，因此需要采用两层高阻隔膜和特殊高分子聚合材料包裹量子点来解决氧化、防水等问题。在本次峰会上，三井化学东赛璐株式会社产业用薄膜/板材事业部部长高濑三男博士特别介绍了东赛璐公司的透明阻隔膜、高度耐用型阻隔膜材料以及在量子点领域的应用。

据介绍，东赛璐公司成立于1929年，已有90年的发展历史，主要生产各种隔膜，后被三井化学并购，成为三井化学全资子公司。目前东赛璐公司在马来西亚、泰国和台湾等地都建有生产工厂，其中60%用于一般包装用的阻隔膜，20%用于机能性板材，20%用于产业用阻隔膜。

关于阻隔膜的生产方式，高濑三男表示，“一种是物理性的PVD，一种是化学性的CVD，东赛璐公司采用PVD法里的真空镀膜法。”他介绍，量子点阻隔膜主要有两个类型的分类：一个是镀氧化铝，一个是镀氧化硅。

高濑三男表示，“PVD法需要多层镀膜，成本也会比较高。”他也介绍，东赛璐公司之前所开发的一款超耐久性的阻隔膜，具有超高的阻隔性能，而且透过率和柔软度非常好，可以用于OLED，“基本上完全可以取代玻璃，没有任何问题。”

 

高濑三男介绍，阻隔膜的氧化硅和氧化铝的主要区别：氧化铝的透明度很高，主要用于食品包装，成本也很便宜，但耐受性不好；而度氧化硅耐药性、耐酸性都非常好，同时薄膜本身的稳定性非常好，与各个薄膜之间的附着性非常好，“不好的地方有一点点偏黄，主动管理比较难，成本比较高一些。”

 

高濑三男也分享了东赛璐公司简单的生产工艺图，其阻隔膜产品利用PVD方法镀膜以后另外加一层Coating层，通过这个层可以对PVD层做补充。他介绍，东赛璐公司并不生产PET原膜，而是通过供应商合作，共同开发出适合于阻隔膜的PET膜，然后先进行MD方向延伸，再进行TD方向延伸，然后上层做一个贴合处理。他表示，“东赛璐公司通过电子的照射让氧化硅均匀的涂布到PET膜上。我们的产品最基础的原材只有25微米，会做PVD的涂层；上面有一个Coating层，主要是有机物，通过厚度的控制，实验室得出的数据是10-6。我们会在25微米的PET上涂10-20纳米的氧化硅的涂层。”

高濑三男也介绍，与现在市场上其他公司产品的对比，东赛璐公司的MCTI产品优势很明显，尤其是B类型的产品因为数据很好，但生产成本比较高。因此，目前东赛璐公司A类型的产品，其对水蒸气和氧气的阻隔率和其他公司在同一个水准上。