为期三天的Finetech Japan 2011，除了原有的显示器相关、高功能膜片、光通讯专门技术研讨会以外，也同时举办了高功能膜片、纳米压印、印刷电子与新兴激光加工的特别研讨会。由研讨会的内容安排，可以看见日本相关产业链的密切分工与协作。在针对印刷电路技术的特别演讲中，主要介绍的不是一般的印刷电路技术，而是以新制程与材料技术所引领的Fine Pitch Patterning技术，随着超薄、软性电子与绿色环保的需求日殷，功能由单纯的电路转换成主动控制回路，再搭配上OLED或是电子纸技术，材料也由一般常见的PI或金属软板，扩展成新开发的光学级耐热透明基板素材，连续式精细喷墨、蒸镀与＜1μm的超精密涂布技术来完成新一代的功能性产品。

　　山形大学的城户淳二教授在新一代印刷电路技术演讲会中说明有关OLED技术的制程与未来发展。城户教授指出，目前的发展方向在中小型的EL需要实现塑料基板的连续式涂布技术发展，RGBY EL多层组件利用喷涂的方式在表面处理后的光学薄膜上进行加工，大型化的OLED面板则是在2015-2020年之后才会有相对应商业化的技术出现。目前OLED也致力于照明的用途开发，只不过寿命会因为需要高亮度的关系而大幅衰减。另外，由城户教授所领导的RIOE（Research Institute for Organic Electronics）目前已经完成单片最大30x30cm的OLED发光面板，并在日本国内结合许多创意设计，描绘出以OLED为照明的相关产品特色。

　　目前大日本印刷正投入七亿日元进行涂布相关制程开发，而印刷或是喷墨法所需要的各种纳米金属墨水，或是有机透明导电材料也相继发表，以符合此制程与电性的需求。

　　在高功能薄膜的基调演讲会中，三菱树脂针对环境、能源、电子等三大应用领域，提出五个战略方向，分别是锂离子电池用隔离膜的高容量、高输出等多功能化；FPD光学膜(光学用透明黏着片、反射膜)的开发；太阳电池材料展开以Barrier Film技术为核心的材料事业，如Back Sheet、Front Sheet、封止材等。另外还有有机光半导体超High Barrier Film的开发，与 LED导光式背光板所需要的高反射率光学膜与新一代取代EVA的PE类Procellier 封止膜的开发等。

　　另外，三井公司对于高附加价值的功能膜片也描绘出发展轮廓，将以三井特有的Polyolefin材料搭配各种加工技术，应用在能源、IT医疗生活与包装上。帝人也以聚碳酸树脂等核心材料技术进行多样化的产品开发。

　　纳米压印的技术演讲会则邀请到北海道大学的西井准治教授进行玻璃光学纳米压印技术的报告。玻璃材料在纳米加工上，比一般塑料塑化或光硬化制程更为困难，不过在折射率与特用光学组件上有其必要性，在一般的曲面镜表面上制作纳米抗反射结构层，可以大幅改善一些镜头相差与干射的问题，可以直接使用在目前所有的镜头光学组件上。兵库县立大学的松井真二教授进行常温纳米压印研究的演讲，特殊的弹性HSQ材料可以成形意想不到的3D杯状纳米结构，颠覆一般微结构的作法。日本板硝子也利用纳米压印技术制作表面直接抗反射纳米结构玻璃，降低因为玻璃反射光所产生的视觉影响。同样在玻璃光学组件上具有重要的光学效果，同时也可以让消费购物的橱窗看得更清楚。同样产品也会应用在显示器的前板中，以减少抗反射材料的使用。纳米压印技术，特别是娥眼纳米结构(200-300nm)抗反射技术已经开始大量的实现在相关的技术产品中。