旭化成E-Materials开发出了在树脂薄膜上形成大量间距及高度为数百nm级凹凸的“纳米构造薄膜”，并在“FPD International 2010”上进行了展示。用途是作为防反射薄膜。
据旭化成E-Materials介绍，通过采用纳米构造，可针对可视光直至红外线的大范围波长的光线降低反射率。而采用原来基于多层膜的防反射薄膜时，为了扩大薄膜能够防止反射的范围，需要增加膜的层数，由此会导致成本增加。采用此次的方法，可通过卷对卷式纳米压印技术连续生产，能够削减成本。
对可视光的反射率为0.5％以下。作为基材的树脂薄膜可使用PET、TAC及PC等。旭化成E-Materials希望能在2010年内或2011年初开始样品供货。另外，此次利用的纳米压印技术还应用在了该公司的线栅偏光膜产品上。
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